Im Rahmen der vorliegenden Arbeit ist eine Technologie zur Sputterdeposition ferromagnetischer dĂŒnner Schichten aufgebaut worden. Nanostrukturierte ferromagnetische Elektroden, die in Experimenten zum spinpolarisierten Transport eingesetzt werden, wurden prĂ€pariert und hinsichtlich ihrer elektrischen und magnetischen Eigenschaften charakterisiert. Im ersten Kapitel werden die Grundlagen der Sputterdeposition und des SputterĂ€tzens erklĂ€rt sowie das wĂ€hrend dieser Arbeit aufgebaute System beschrieben. Die verwendeten Prozesse wurden mit Hilfe statistischer Methoden charakterisiert. Dabei ist der Einfluss der Argon-Ionenenergie und des Prozessdrucks sowohl auf die Depositions- und Ătzraten als auch auf die Rauhigkeiten der Schichten und Substrate systematisch untersucht worden. Erste Ergebnisse bezĂŒglich der Sputterdeposition der ternĂ€ren Heusler-Legierung Ni2MnIn werden gezeigt. Dabei wird zusĂ€tzlich die AbhĂ€ngigkeit der Filmstöchiometrie von den Prozessparametern untersucht. Das zweite Kapitel behandelt die Charakterisierung gesputterter ferromagnetischer dĂŒnner Schichten und Nanostrukturen. Mit Magnetkraftmikroskopie in Ă€uĂeren Magnetfeldern und dem magnetooptischen Kerr-Effekt wurden die Formanisotropie und die Kristallanisotropie gesputterter Permalloy (Ni80Fe20)-Elektroden und homogener Schichten untersucht. Der anisotrope Magnetowiderstand wurde an NanodrĂ€hten aus Permalloy und Nickel mit Hilfe von Transportmessungen in Ă€uĂeren Magnetfeldern untersucht.Das dritte Kapitel behandelt Ferromagnet/Supraleiter-Hybridsysteme. Theoretische Konzepte werden vorgestellt, und die Ergebnisse fĂŒr elektronenstrahllithografisch definierte Kontakte werden diskutiert. FĂŒr Punktkontakte ist wĂ€hrend dieser Arbeit ein neues Mess- und Auswertesystem entwickelt worden. Aus den damit gemessenen Transportdaten wurde die Spinpolarisation fĂŒr verschiedene Materialien bestimmt.

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9783865370723
Edition
1