In dieser Arbeit wurden mithilfe von Rastertunnelmikroskopie und âspektroskopie die strukturellen und elektronischen Eigenschaften von Metall-Halbleiter-Kontakten (Schottky-Kontakten) auf der atomaren Skala untersucht. FĂŒr diese Untersuchungen wurde der neuartige Zugang in der Querschnitts-Geometrie gewĂ€hlt. Dieser hat gegen ĂŒber den bisherigen Arbeiten in planarer MeĂgeometrie den Vorteil, daĂ das Substrat, die Verarmungszone des Schottky-Kontaktes und die eigentliche GrenzflĂ€che fĂŒr die Messungen zugĂ€nglich sind. Die Auswahl des Systems Au auf GaAs(110) wurde einerseits motiviert durch die vorteilhaften Spalteigenschaften der III-V-Halbleiter, andererseits durch das Fehlen von Bandverbiegung an den freien, ungepinnten (110)-OberflĂ€chen, die bereits in vielen Arbeiten zur Physik des Schottky-Kontaktes als Modellsystem untersucht wurden. Wir haben gezeigt, daĂ durch PrĂ€paration mit cleaved edge overgrowth auf atomarer Skala wohldefinierte Proben hergestellt werden können, die âobgleich technologisch weniger bedeutendâ gut fĂŒr die Untersuchung grundlegender Mechanismen an Metall-Halbleiter-Kontakten geeignet sind. Mithilfe von spannungsabhĂ€ngigen Topographie-Messungen konnten wir die GrenzflĂ€che mikroskopisch charakterisieren. Im Bereich der GrenzflĂ€che finden wir eine Defektdichte von weniger als 3 Ă 1013cm?2. Das Resultat dieser konservativen AbschĂ€tzung ist zu klein, um das Fermi level pinning am Schottky- Kontakt erklĂ€ren zu können. Diese Ergebnisse scheinen im Widerspruch zu einigen frĂŒheren Arbeiten zu stehen, in denen eine deutlich gestörte GrenzflĂ€che mit hoher Defektdichte fĂŒr Ă€hnlich prĂ€parierte Systeme beobachtet wurde.

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9783865372161
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1