Das Material Galliumnitrid ist bereits heute fĂŒr die optische Datenspeicherung (Blu-ray Disc, HD-DVD) und die Allgemeinbeleuchtung von groĂer Bedeutung. WeiĂ emittierende Leuchtdioden (LEDs) sollen schon in naher Zukunft GlĂŒhbirnen und Leuchtstoffröhren ersetzen, da sie wesentlich energiesparender, langlebiger und robuster sind. FĂŒr diese Anwendungen sind Halbleiterkristalle von besonders hoher QualitĂ€t notwendig.Diese Arbeit beschĂ€ftigt sich daher mit zwei Verfahren zur Herstellung von Galliumnitrid mit geringer Versetzungsdichte und hoher Kristallperfektion, wie es fĂŒr die Weiterentwicklung der Bauelemente notwendig ist. Einerseits wird ausgehend von einer grundlegenden Untersuchung der Prozessparameter das MOVPE-Wachstum auf strukturierten Substraten diskutiert und bis zu einem mehrstufigen Facetten-kontrollierten Verfahren weiterentwickelt. Andererseits wird die Herstellung massiver GaN Kristalle mittels Hydrid-Gasphasenepitaxie (HVPE) beschrieben, dem aussichtsreichsten Verfahren fĂŒr die industrielle Fertigung dieses Materials.Stichwortliste: Galliumnitrid, GaN, Versetzungen, Versetzungsdichte, ELO, FACELO, MOVPE, HVPE, Hydrid-Gasphasenepitaxie

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9783867279987
Edition
1