Zerstörverhalten und Anwendungen von oxidischen Mischungen im Ultrakurzpulsbereich
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Zerstörverhalten und Anwendungen von oxidischen Mischungen im Ultrakurzpulsbereich

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Zerstörverhalten und Anwendungen von oxidischen Mischungen im Ultrakurzpulsbereich

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Zurzeit ist im wissenschaftlich-technologischen Bereich sowie in der Medizintechnik eine rapide und nachhaltige Zunahme der Ultrakurzpuls (UKP)-Laseranwendungen zu beobachten. Der besondere Vorteil der UKP-Laser liegt in der speziellen Wechselwirkung der ultrakurzen Laserpulse mit der Materie begrĂŒndet. Im Gegensatz zu den Laserquellen mit lĂ€ngeren Pulsdauern lassen sich mit UKP-Lasern gezielt nichtlineare, elektronische Effekte ausnutzen, bei denen thermische Effekte vernachlĂ€ssigt werden können. Das VerstĂ€ndnis des Wechselwirkungsprozesses ist somit die Grundlage fĂŒr seine gezielte technologische Anwendung. FĂŒr die Optikfertigung ergeben sich hier neue Herausforderungen, aber auch die Möglichkeit, einen detaillierteren Einblick in die ZerstörungsvorgĂ€nge von dielektrischen Materialien und optischen Komponenten zu gewinnen. Dies ist der Ansatzpunkt der vorliegenden Arbeit. ZunĂ€chst wird das grundlegende Verhalten von dielektrischen Materialien bei der Wechselwirkung mit UKP-Laserstrahlung thematisiert. In einer theoretischen Betrachtung werden Modelle dargestellt, auf deren Grundlage das Zerstörungsverhalten von optischen Schichten prognostiziert wird. Besondere Bedeutung kommt hier der AbhĂ€ngigkeit der Zerstörschwelle von der Wellenlange der Laserstrahlung und dem Material zu, aber auch die AbhĂ€ngigkeit von der internen FeldstĂ€rke und von der Pulsdauer wird thematisiert.Im experimentellen Teil werden zunĂ€chst die von den theoretischen Modellen prognostizierten Aussagen an Einzelschichten ĂŒberprĂŒft. Vor allem fĂŒr dieWellenlĂ€ngenabhĂ€ngigkeit der laserinduzierten Zerstörschwelle (LIDT, Laser Induced Damage Threshold) sagt die Theorie ein diskontinuierliches Verhalten voraus, welches durch den Einfluss der Multiphotonenionisation hervorgerufen wird. Dieses Verhalten konnte im Rahmen der Arbeit erstmals exemplarisch an TiO2-Schichten nachgewiesen werden. Die MaterialabhĂ€ngigkeit wurde an ternaren TixSi1?xO2-Mischschichten untersucht. Dabei zeigte sich, dass sich die ternaren Mischungen weitgehend identisch zu den binaren Oxiden verhalten. Die maßgebliche physikalische KenngrĂ¶ĂŸe ist hierbei die Materialabsorptionskante, die auch einen direkten Vergleich zwischen den Materialien gestattet. Im Gegensatz zu den binaren Oxiden lassen sich die ternaren Mischungen mittels des Ionenstrahl-Co-Sputter-Verfahrens stufenlos variieren. Dieser zusĂ€tzliche Beschichtungsfreiheitsgrad fĂŒhrt zu verbesserten Möglichkeiten fĂŒr das Design komplexer Hochleistungsoptiken. In diesem Zusammenhang wurde hier ein Konzept abgeleitet, welches eine Stabilisierung der optischen Schicht durch gezielte Variation der Mischung vorsieht. Um das Verfahren effektiv in der Optikfertigung anzuwenden, wurden auf Grundlage dieses Konzeptes Optimierungsalgorithmen entwickelt und angewendet. Damit wurde die LIDT von optischen Komponenten in verschiedenen, auf TiO2/SiO2 basierenden Applikationen um stets deutlich mehr als 100% gesteigert und es wurde gezeigt, dass sich das Konzept bei anderen oxidischen ternaren Mischungen anwenden lasst.

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Information

Year
2012
eBook ISBN
9783736941212
Print ISBN
9783954041213
Edition
1

Table of contents

  1. Danksagung
  2. Abstract
  3. Kurzzusammenfassung
  4. Inhaltsverzeichnis
  5. Kapitel 1 Einleitung
  6. Kapitel 2 Eigenschaften von binÀren oxidischenMaterialien
  7. Kapitel 3 Theorie der Zerstörung im UKP-Bereich
  8. Kapitel 4 Beschichtungsverfahren, Messaufbautenund Evaluation von Standardmessungen
  9. Kapitel 5 Zerstöreigenschaften von Quarzsubstraten
  10. Kapitel 6 Experimentelle Ergebnisse anEinzelschichten aus oxidischen Mischungen
  11. Kapitel 7 Anwendung von Mischungen zurStabilisierung von Ultrakurzpulsoptiken
  12. Kapitel 8 Zusammenfassung
  13. Anhang A AbschÀtzung zur LIDT-AbhÀngigkeit vominternen Feld
  14. Anhang B Definitionen fĂŒr die Messung nachISO11254 und ISO11551
  15. Anhang C FeldstÀrke, Energiefluss und IntensitÀt
  16. Anhang D Variablen und Konstanten
  17. Anhang E Eigene Veröffentlichungen
  18. Abbildungsverzeichnis
  19. Tabellenverzeichnis
  20. Literaturverzeichnis
  21. Lebenslauf