Um die spektrale SelektivitĂ€t und StabilitĂ€t von rot-emittierenden Kantenemittern zu verbessern, wurden in dieser Arbeit umfassende Untersuchungen zur monolithischen Integration longitudinaler Modenfilter durchgefĂŒhrt.ZunĂ€chst wurden numerische Berechnungen an Distributed-Bragg-Reflector-Gitterstrukturen (DBR) angestellt. Dabei wurden Gitterstrukturen zehnter Gitterordnung mit einer Periode von circa 970 nm fĂŒr eine EmissionswellenlĂ€nge von 635 nm verwendet. Diese DBR-OberflĂ€chengitter können mittels i-line-Projektionslithographie und kapazitiv-gekoppeltem PlasmaĂ€tzverfahren re-alisiert werden. Das ausgewĂ€hlte Ătzverfahren ermöglichte es, ein V-förmiges Ătzprofil kontrolliert einzustellen, indem die TemperaturabhĂ€ngigkeit der Ătzredeposition genutzt wurde.Die Nutzung einer internen passiven DBR-Gittersektion ermöglicht es, diese ohne umfassende DesignĂ€nderungen in verschiedene bestehende Bauelement-Konfigurationen zu integrieren. Die dafĂŒr entwickelte Chip-Level-Integration bietet sowohl die Möglichkeit zur Serienfertigung, als auch eine bislang unerreichte Miniaturisierung. Eine GitterreflektivitĂ€t von 60% konnte nachgewiesen werden.Dank der integrierten DBR-Gittersektion verfĂŒgt beispielsweise ein DBR-Rippenwellenleiterlaser ĂŒber eine ĂŒber die Gitterperiode konfigurierbare EmissionswellenlĂ€nge. Er zeigt dabei eine longitudinal einzelmodige Emission mit hoher SeitenmodenunterdrĂŒckung und einer Linienbreite von weniger als 1 MHz. Der emittierte Strahl erreicht eine Dauerstrich-Ausgangsleistung von zuverlĂ€ssig 10 bis 20 mW, beziehungsweise bis 100 mW bei geringerer Frontfacetten-ReflektivitĂ€t. Auch spezifische Gitterparameter wie GitterlĂ€nge und Ătztiefe wurden in diesem Zusammenhang untersucht.

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Information
Print ISBN
9783736991163
Edition
1Table of contents
- Eigene Veröffentlichungen
- Zusammenfassung
- Abstract
- Inhaltsverzeichnis
- Kapitel 1 Einleitung
- Kapitel 2 Der Kantenemitter
- Kapitel 3 Interne Gitterstrukturen als integrierte longitudinale Modenfilter
- Kapitel 4 Numerische Berechnungen tiefgeÀtzter OberflÀchengitter
- Kapitel 5 Technologische Realisierung interner OberflÀchengitter zehnter Ordnung
- Kapitel 6 Bauelemente im Dauerstrichbetrieb
- Kapitel 7 Zusammenfassung und Ausblick
- Anhang A Wafer-Kenndaten
- Anhang B Bandstrukturberechnungen
- Anhang C Kennlinien-Simulation fĂŒr BAL
- Literaturverzeichnis
- Abbildungsnachweis
- Danksagung