Nach dem heutigen Stand der Technik werden mit dem IonenstrahlzerstĂ€ubungsverfahren (engl. Ion Beam Sputtering â IBS) optische DĂŒnnschichtsysteme mit geringsten Verlustraten realisiert, die höchste QualitĂ€tsstandards erfĂŒllen. Da das IBS-Verfahren in seiner bisherigen Konzeption relativ ausgereift ist, sind kĂŒnftig nur inkrementelle Verbesserungen zu erwarten. Mit dem Ziel das IBS-Verfahren dennoch zu verbessern, wird in dem vorliegenden Werk die Möglichkeit einer Erweiterung des IBS-Verfahrens durch die Implementierung eines Separatorkonzepts vorgestellt. Mit einem auf magnetischen Feldern basierenden Separationsverfahren ist es gelungen, die QualitĂ€t optischer Schichten durch eine Verminderung von Streuwerten zu steigern. DarĂŒber hinaus wurde so eine Zugriffsmöglichkeit auf die Plasmaspezies geschaffen, womit neue Freiheitsgrade fĂŒr Manipulationen der im IBS-Verfahren ablaufenden Prozesse eröffnet wurden. Diese Möglichkeiten verleihen dem modifizierten IBS-Prozess weitreichende Gestaltungsfreiheiten, mit denen BeschichtungsablĂ€ufe optimierbar sind.

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Information
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9783736992702
Edition
1Table of contents
- Vorwort und Danksagung
- Kurzzusammenfassung
- Abstract
- Inhaltsverzeichnis
- 1 Einleitung
- 2 Stand der Technik
- 3 Theoretische Grundlagen
- 4 Experimenteller Aufbau
- 5 Messmethoden zur Charakterisierung der Beschichtung
- 6 Ergebnisse
- 7 Zusammenfassung
- 8 Ausblick
- 9 Abbildungsverzeichnis
- 10 Literaturverzeichnis
- Lebenslauf